本设备采用高精度狭缝涂布技术,专为攻克多层复合膜制备中涂层均匀性控制、高湿厚浆料烘干变形等行业难题而设计,是实现高性能、低缺陷离子膜量产的关键装备。
最大基材宽幅:≤ 1250 mm (可定制) 涂布速度范围:0.1 – 2 m/min 烘箱最高温度:250 °C 烘箱温度均匀性:± 2 °C 涂层厚度均匀性:≤ ± 1 μm